在先進技術方面,TSMC將在今年年底量產3納米技術,2025年量產2納米技術。這一代將開始使用GAA晶體管,放棄目前的FinFET晶體管技術。
未來呢?2nm之后,就是1.4nm工藝。英特爾、TSMC和三星也在沖刺。其中,三星率先宣布2027年量產1.4nm工藝。TSMC沒有說時間點,預計在2027年左右。
1.4nm之后是1nm工藝。這個節點曾被認為是摩爾定律的物理極限,無法實現,但現在芯片廠商已經在攻關。
TSMC已經開始試點計劃。據傳,1nm晶圓廠將設在新竹科技園的子公司桃園龍潭園區。這意味著TSMC已經開始為1納米做準備了。畢竟工廠需要提前一兩年建好。
但真正量產1nm還需要很長時間,關鍵設備是下一代EUV光刻機。需要將下一代高NA(數值孔徑)標準從目前的0.33 NA升級到0.55NA,更高的NA意味著更高的分辨率,這是3nm以后工藝的必要條件。
按照ASML的計劃,下一代EUV光刻機測試機型最快將于明年出貨,2025年后達到正式量產能力,價格將達到4億美元以上。
摩爾定律不死 臺積電已在謀劃 1nm 工藝:下代 EUV 光刻機是關鍵 一輪紅日驚天一唱一和動地44. 其實,世事皆可作如此觀,有浪,但船沒沉,何妨視作無浪;有陷阱,但人未失足,何妨視作坦途。80. Let me know what time suits you best.(2016.全國)356.萬事俱備,只欠東風。 燭影搖紅 廖世美欲濟無舟楫,端居恥圣明。臺積電,三星,芯片,光刻機,分辨率Another reason why I dispute the above statement is that… |